Czyszczenie Chemiczne: Komora Czujnika Tlenu Oraz Ozonu; Czyszczenie Zabezpieczenia Membrany - Hach ORBISPHERE 31 Serie Manual De Instrucciones

Ocultar thumbs Ver también para ORBISPHERE 31 Serie:
Tabla de contenido
Idiomas disponibles
  • ES

Idiomas disponibles

  • ESPAÑOL, página 69
Uwaga: Po rozłożeniu lub serwisowaniu czujnika należy przeprowadzić jego kalibrację. Przed przeprowadzeniem
kalibracji pozostawić czujnik na 30 minut.
Centrum czyszczenia i regeneracji czujników elektrochemicznych
Model ORBISPHERE 32301 jest bardzo wydajnym narzędziem służącym do czyszczenia
i regeneracji czujników elektrochemicznych. Narzędzie służy do odwracania procesu
elektrochemicznego, który zachodzi w komorze czujnika podczas normalnej pracy. Powoduje
to usunięcie utlenionej warstwy przy jednoczesnej regeneracji powierzchni elektrod. Ponadto
centrum regeneracji ma w ofercie tester ciągłości obwodu służący do sprawdzania układów
elektronicznych czujnika.
Zaleca się stosowanie tego narzędzia w celu znacznego przedłużenia żywotności czujnika.
Szczegółowe informacje dotyczące korzystania z centrum czyszczenia i regeneracji znajdują się
w instrukcji obsługi modelu 32301.
Uwaga: Z centrum czyszczenia i regeneracji czujników 32301 należy bezwzględnie korzystać w celu serwisowania
elektrochemicznych czujników H
(patrz część
Czyszczenie komory czujnika wodoru

Czyszczenie chemiczne: komora czujnika tlenu oraz ozonu

Uwaga: Nie dotyczy czujników H
Ta część oparta jest na założeniu, że czujnik został rozłożony. Informacje dotyczące demontażu
i montażu znajdują się w części
Warunki
Zużycie membrany oraz reakcje chemiczne zachodzące wewnątrz czujnika sprawiają, że w celu
przywrócenia jego pierwotnej czułości musi on być regularnie serwisowany. Serwisowanie obejmuje
czyszczenie elektrody i wymianę membrany. Wyraźnym znakiem wskazującym na potrzebę
przeprowadzenia konserwacji czujnika jest znaczny spadek stabilności wyników, która nie ulega
poprawie po kalibracji.
Opis metody (patrz poniższa procedura krok po kroku)
• Czyszczenie elektrochemiczne za pomocą modelu 32301 (jeśli jest dostępny)
... w przypadku braku dostępności lub gdy wyniki są niewystarczające:
• Chemiczne czyszczenie anody i katody
• Polerowanie elektrody środkowej
• Końcowe płukanie
Uwaga: W celu eliminacji pozostałych osadów srebra, których nie usunięto podczas czyszczenia amoniakiem,
może być konieczne powtórne czyszczenie chemiczne z zastosowaniem kwasu azotowego (HNO
70% wagowych).

Czyszczenie zabezpieczenia membrany

1. Opróżnić zasobnik elektrolitu i wypłukać go pod
bieżącą wodą.
2. Opłukać zabezpieczenie membrany pod wodą
i osuszyć.
3. Sprawdzić, czy na powierzchniach nie występuje
osad. Osad można usunąć, umieszczając
zabezpieczenie w pojemniku z kwasem azotowym
(HNO
, nie więcej niż 70% wagowych)
3
do momentu, aż odzyska pierwotny wygląd (zwykle
w ciągu 30 sekund).
4. Płukać pod bieżącą wodą przez minutę i ponownie
sprawdzić czystość powierzchni.
Kwas azotowy jest substancją niebezpieczną! Należy zapoznać się z informacjami dotyczącymi bezpieczeństwa
uzyskanymi od dostawcy substancji chemicznych.
. Proces ten zwany jest odchlorkowaniem i ponownym chlorkowaniem elektrod
2
na stronie 134).
.
2
Demontaż i montaż
U W A G A
na stronie 128
, nie więcej niż
3
Polski 131
Tabla de contenido
loading

Tabla de contenido